森派克(ThermVac)开发SiC?TaC?B4C?PYC 化学气相沉积技术
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[摘要] 韩国华城--(
韩国华城--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)--森派克是韩国一家专门开发独创真空炉的公司，随着高科技行业对高温化学气相沉积（CVD）配件需求日益增加，除了可广泛应用于900℃至2400℃高温至超高温范围的设备硬件设计与制造技术外，还并行开发了相关工艺技术，来满足国内外客户的需求。高温CVD零件是半导体、太阳能、手机、航空航天、国防等高科技行业必不可少的工艺构件或材料零件。
森派克在2011年韩国政府技术开发支援项目中，执行了CVD-SiC 设备的国产化开发任务，在此过程中研发了CVD设备的基本技术。此后开发出半导体及太阳光工艺配件用CVD-SiC设备、2000℃以上超高温工艺配件用TaC CVD设备、航空航天与国防武器材料用HfC/B4C/BN CVD设备、手机和生物材料用PYC CVD设备、Carbon/SiC复合材料用CVD设备等，供应到国内外市场。
森派克在CVD设备领域的竞争力在于1）涵盖从原材料供应到废气处理的整个CVD工艺的一站式(Turn-key Plant)供应能力，2）根据产品形状或装载方式选择水平或垂直气流的流动控制能力，3）便于加热室维护的Retort Muffle组装结构，4）石墨化和碳纯化设备开发过程中积累的超高温操作能力，以及5）同时提供设备硬件和基本工艺配方的工艺开发能力。
森派克在公司内建造了一台可以加热到 2400℃的 Pilot CVD 设备，当客户确认CVD设备订单时，可进行设备硬件设计，提前通过Pilot 设备进行工艺测试。这样就提高了设备的可靠性，为客户提供了设备初始运行必不可少的基本工艺配方。
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